PRODUCT
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MUM SERIES
Exposure System For MEMS
제품개요
- 자외선에 MASK를 이동하는 것으로 RESIST표면에의 노광 분포를
제어하여 임의의 곡면이나 경사가 있는 3차원 미세 구조체가 제작가능한 장치입니다.
| 기판 SIZE | MAX Ø8” (WAFER) |
|---|---|
| MASK SIZE | MAX Ø9“x 9” x t3.0mm |
| 광원 | 초고압 수은등: 500 w or 1KW |
| 본체 치수 | W2120 x D1305 x H1850mm |
| 본체 중량 | 640kg |