PRODUCT
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MA-4000
Exposure system for compound (Mask aligner)
다층 노광를 위해 자동 정렬 메커니즘을 사용할 수 있는 마스크와 정렬된 코팅기판에 패턴을 인쇄하는 노광 시스템에 기판 적재, 정렬, 노광, 배출 등이 자동으로 수행된다.
제품개요
- ▷독자의 평행보정 기구에 Mask와 Wafer간의 Proximity GAP 정밀설정.
▷독자적인 고속 화상처리 기술에 의한 고정밀의 Alignment를 실현.
▷Pre Alignment를 화상처리 기술에 의해 얇은 기판이나 휘어진 기판,
갈라지기 쉬운 Wafer 대응.
▷독자적인 Contact 정밀 제어 기구에 의해 Mask 에 Wafer를 고정밀 Contact 가능
▷Wafer 이면 진공 흡착 방식에 의해 고속/고정밀도로 안정된 자동 반송을 실현
▷Mask를 수납할 수 있는 Mask Library를 탑재 대응.
※ 기판 SIZE나 수은등의 파워는 특주 사양으로의 별도협의 가능
| 기판 SIZE | Ø2 ~ 4 |
|---|---|
| MASK SIZE | Ø5 |
| 광원 | 초고압 수은등: 500W or 1KW |
| 본체 치수 | W1340 x D1430 x H1900mm |
| 본체 중량 | 1120kg |
| 옵션 | 생산관리 시스템 (D-NET), 표면 ALIGNMENT , ○ □ 기판 채용 |