▷Mask Holder/기판 스테이지를 세로 배치
Mask / Mask Holder / 기판 스테이지의 처짐 보정이 불필요,
▷심플하고 안정적인 좋은 장치를 실현
▷신형 광학계의 채용에 의해 패턴 전사 정도에 영향을 주는 DECLINATION
▷ANGLE이 본래의 반 이하가 되어 보다 고 정밀의 패턴 전사가 가능
▷본체와 광원부를 완전 분리 , 광원의 열을 본체에서 전달되지 않는 구조로
본체부의 열분포가 향상
▷MASK나 Glass 기판의 온도차에 의한 신축을 방지하기 위해
Stage온도 Control이나 MASK냉각 System선택 가능.
▷MASK를 수납할 수 있는 MASK Library를 탑재